CCD台式直读光谱仪
台式/落地式直读光谱仪从废旧金属中的杂质元素的分析、来料检测,到铸造过程中的 QAQC、熔体控制以及成品检测,连贯的质量控制在整个金属加工行业中都至关重要。 直读光谱法 (OES) 是用于确定各种金属的元素组成的非常值得信赖和广泛使用的分析技术。
CCD OE750/OE720台式直读光谱仪
新型OE750是一款突破性的新型OES金属分析仪。其涵盖了金属元素的全部光谱,并具有同类产品中痕量元素的检出限。
由于行业法规日益严格,供应链变得复杂以及更多地使用废料作为基础材料,因此铸造厂和金属制造商必须将杂质和痕量元素控制在很低ppm范围内。在过去,这一级别的OES对许多企业而言是遥不可及。日立分析仪器推出的新型OE750可改变这一现状。
这款直读光谱仪可用于分析所有主要合金元素,并识别金属中含量低的杂质、痕量元素和处理元素,如钢中的氮。 OE750的测量速度快、可靠性高且运营成本低,可进行高性价比的日常分析和全面质量控制,其性能可与更大、更贵的光谱仪媲美。
为什么选择 OE750?
1. 值得信赖的结果在同类产品中控制杂质和痕量元素的光学分辨率好。
2.综合成本低负担得起的购买和运行成本,提供更贵分析仪器所具备的性能。
3. 保持运行不间断设计可靠,维护和标准化要求极低。
4. 支持连续生产 分析速度快,启动时间短,可快速反馈熔液质量。
只需一台价格合理的OE750设备,就能提供快速全面的金属质量分析,满足您所有的需求。
技术参数:
Spectrometer Optical System光谱仪光学系统 - Paschen / Runge mounting Multi-CMOS optics采用帕邢-龙格装置多块CMOS光学系统 - Diameter Rowland circle: 400 mm. 罗兰圆直径:400 mm - Effective wavelength 119 – 766nm. 波长范围:119 – 766nm. - Pixel resolution 7 pm. 像素分辨率:7 pm Spark Source火花源 - High energy pre-spark (HEPS) 高能预燃技术 (HEPS) - Computer controlled parameters计算机调节参数 - Frequency 80– 1000 Hz频率80 – 1000 Hz - Voltage 250 – 500 V电压250– 500 V Computer and readout system (external PC) 计算机及读出系统(笔记本电脑,台式电脑可选) - Intel(R) i3-7100U 英特尔i3处理器 - Windows 10 operating systems Windows 10操作系统旗舰版 - Min. 2.40 GHz and 4 GB Ram 主频2.40GHz内存4.00GB - AMD Radeon R5 M330 显卡 - Hard disk硬盘容量500GB - CD-burner CD烧录功能 - Fire-Wire, LAN Ethernet防火墙,局域网 - Parallel interface并口 - Serial (RS 232) Interface系列RS232接口 - 2 USB Interfaces, 2个USB接口, - VGA Video port视频输出功能 - Battery life 5 hours电池续航时间 5个小时 - External, 14.1 “TFT-LCD–Display 14.1 “液晶显示器 - Resolution 1280 * 800 分辨率1280 * 800 - Weight 1.94Kg 重量 1.94千克